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超高真空兼容系统微波等离子源
可选用氧气、氮气、氩气等作为反应气体,进行表面处理清洁、表面反应。
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应用领域:
试样表面碳污染处理,腔体内壁面清洁,材料表面溅射处理。
作用机理:
(1)物理清洁:为离子轰击,清洁强度取决于离子动能。该设备可以使用多种实验气体,比如氧气、氩气、氮气,其中氩气的分子量大,电离后产生的颗粒比较重,在电场的作用下氩离子的动能明显高于其他活性气体,其活化效果更显著,清洁作用更强。
(2)化学清洁:氧气充入后产生电离反应,带有化学活性的氧离子可以对表面的污染物进行反应,达到清洁作用。
参数:
材质:不锈钢
供电电压: AC220V
功率: 整机功率不超过150W
工作气压: 5~50Pa
安装接口规格: DN35CF刀口法兰
系统漏率: 5X10-11Pa*M3/S
可烘烤温度:120°C
微波等离子源通气实拍
氧气:
氩气:
氮气: